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| 品牌 | 精測 | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類(lèi) | 順序掃描 | 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,電子,冶金,電氣,綜合 |
淄博ICP電感耦合光譜儀廠(chǎng)家
ICP光譜分析儀的專(zhuān)業(yè)制造廠(chǎng)商。它是集科研、生產(chǎn)、銷(xiāo)售、技術(shù)服務(wù)于一體的高科技企業(yè)。HK-8100型ICP光譜分析儀，是我公司在現有技術(shù)的基礎上，吸收新技術(shù)成果研制開(kāi)發(fā)的最新產(chǎn)品。
ICP光譜分析儀（ICP-AES/OES），主要用于微量/痕量元素的分析，可分析的元素為大多數的金屬和硅，磷等少量的非金屬，共72種。廣泛應用于稀土、貴金屬、合金材料、電子產(chǎn)品、醫藥衛生、冶金、地質(zhì)、石油、化工、商檢、環(huán)保以及釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè)分析檢測，可對待測樣品進(jìn)行定性或從超微量到常量的定量分析。
淄博ICP電感耦合光譜儀廠(chǎng)家
| 光柵刻線(xiàn) | 光柵：2400刻線(xiàn) | 光柵：3600刻線(xiàn) | 光柵：4320刻線(xiàn) | |
| 波長(cháng) | 范圍 | 190nm-800nm | 190nm-500nm | 190nm-420nm |
| 示值誤差 | ±0.03nm | ±0.03nm | ±0.03nm | |
| 重復性 | ≦0.005nm | ≦0.005nm | ≦0.005nm | |
| 光譜帶寬 | Mn 257.610nm | Mn 257.610nm | Mn 257.610nm | |
| 半高寬≦0.030nm | 半高寬≦0.015nm | 半高寬≦0.007nm | ||
| 檢出限/(ug/L) | Zn(213.856nm)≦ 3.0 | Zn(213.856nm)≦ 3.0 | Zn(213.856nm)≦ 3.0 | |
| Ni(231.604nm)≦ 10.0 | Ni(231.604nm)≦ 10.0 | Ni(231.604nm)≦ 10.0 | ||
| Mn(257.610nm）≦ 2.0 | Mn(257.610nm）≦ 2.0 | Mn(257.610nm）≦ 2.0 | ||
| Cr(267.716nm)≦ 7.0 | Cr(267.716nm)≦ 7.0 | Cr(267.716nm)≦ 7.0 | ||
| Cu(324.754nm)≦ 7.0 | Cu(324.754nm)≦ 7.0 | Cu(324.754nm)≦ 7.0 | ||
| Ba(455.403nm）≦ 1.0 | Ba(455.403nm）≦ 1.0 | Ba(455.403nm）≦ 1.0 | ||
| 重復性 | 3號溶液 RSD≤1.5% | 3號溶液 RSD≤1.5（%） | 3號溶液 RSD≤1.5（%）） | |
| 穩定性 | 3號溶液 RSD≤2% | 3號溶液 RSD≤2% | 3號溶液 RSD≤2% | |
傳真：0531-69980259
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