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合金ICP光譜儀的光譜干擾校正淺談

 更新時(shí)間:2020-06-09 點(diǎn)擊量:920
   合金ICP光譜儀是專(zhuān)門(mén)針對不同行業(yè)(如環(huán)保行業(yè))用戶(hù)的需求,為方便使用,提高工作效率而開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品。ICP光譜儀的鋁質(zhì)外殼緊湊牢固,而且便于更換所有部件。儀器體積小,重量輕,適合放置到任何實(shí)驗臺上。
  合金ICP光譜儀還有許多根據用戶(hù)的建議和實(shí)際經(jīng)驗而改進(jìn)的地方。比如耐化學(xué)腐蝕的表面和便于維修更換部件的側面開(kāi)門(mén)等。該儀器配備*CCD光學(xué)系統設計*可靠的RF發(fā)生器,簡(jiǎn)化了安裝和培訓要求。按照EPA標準預先設置好分析方法,適合分析:金屬、水/廢水、土壤、泥污、濾渣等。儀器設備緊湊,占用面積小,樣品流程非常短,因此大大縮短了分析時(shí)間和沖洗時(shí)間。
  在ICP光源中,光譜干擾是十分嚴重的干擾,光譜干擾主要分為兩類(lèi):
  一類(lèi)是譜線(xiàn)重疊干擾,是由于光譜儀色散率和分辨率的不足,使某些共存元素的譜線(xiàn)重疊在分析上的干擾;
  另一類(lèi)是背景干擾,這類(lèi)干擾與基體成分及ICP光源本身所發(fā)射的強烈的雜散光的影響有關(guān)。
  對于譜線(xiàn)重疊干擾,采用高分辨率的分光系統,決不是意味著(zhù)可以*消除這類(lèi)光譜干擾,只能認為當光譜干擾產(chǎn)生時(shí),它們可以減輕至小強度。因此,常用的方法是選擇另外一條干擾少的譜線(xiàn)作為分析線(xiàn),或應用干擾因子校正法(IEC)予以校正。對于背景干擾,有效辦法是利用現代儀器所具備的背景校正技術(shù)給予扣除。

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